服務熱線
熱處理爐的選擇通常取決于所需的熱處理工藝和材料。不同類型的熱處理爐適用于不同的應用，熱處理爐有很多種類，比如箱式爐、氣氛爐、管式爐、真空爐、CVD、PECVD等，選擇更適合自己熱處理工藝的爐子，才能在處理材料過程中更加得心應手。下面就來給大家介紹一下熱處理爐子都有哪些類型，以及每個爐型對應哪種熱處理方式。
一、熱處理爐按工藝可分為：
①淬火爐：用于對金屬進行淬火處理，提高其硬度和強度。淬火爐通常使用氣體、油或水等介質進行淬火。
②回火爐：用于對已經淬火的金屬進行回火處理，以調整其硬度和改善其韌性。
③退火爐：用于降低金屬硬度，提高可加工性。退火爐通常通過控制溫度和保溫時間來實現。
④均熱爐：用于將金屬加熱到均勻溫度，以便進行其他熱處理操作，如淬火、回火等。
⑤真空爐：提供無氧或低氧環境，適用于對金屬進行精密熱處理，避免氧化或其它表面反應。
⑥氣氛爐：提供特定氣氛環境，如氫氣、氮氣等，以影響金屬的表面化學性質。
⑦熱處理線：針對大規模生產，自動連續進行熱處理的生產線。
⑧箱式爐：封閉式爐體，適用于小批量生產或實驗室應用。
⑨臥式爐和立式爐：適用于不同形狀和大小的工件，可根據具體需要選擇。
二、熱處理爐按爐型可分為：
①箱式爐：有大型和小型的分類，小型的可用于實驗、灰化、成分檢測、退火、回火、燒結等，大型的可用于工業臺車爐、金屬物料燒結、大型物料退火、回火等，箱式爐主要應用于粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、玻璃新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等方面。
熱處理爐根據爐型可分為以上幾種
②氣氛爐：可在箱式爐的基礎上向爐體內通入氣體，以保證物料反應，或者在真空狀態下物料的熱處理。氣氛爐主要應用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業電子陶瓷產品的預燒、燒結、釬焊等工藝。
③管式爐：加熱爐膛為管式，管式爐的爐膛材質一般為：金屬不銹鋼管、石英管、莫來石管、氧化鋁管(也叫剛玉管)等，不同的管材，加熱溫度和價格也是不一樣的，選擇合適自己熱處理工藝的管型才是比較合適的。管式爐主要應用于：電池部分正極材料、無強酸堿性粉體材料、顆粒狀物料的實驗室煅燒及干燥、高校、科研院所、工礦企業做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗等場景，是應用比較廣泛的熱處理爐型。
④真空爐：一般由真空熱處理爐主要由真空爐體、加熱爐膛，測溫系統、真空系統、制系統、水冷系統等組成，爐膛可以抽高真空或者通氣體，比其他爐型有著更好的真空度和密閉性，適合對真空度要求更高，或者氣密性更高的熱處理工藝。真空爐主要應用場景：粉末冶金、功能陶瓷、碳化硅、氧化鋁等新材料的高溫熱成型，主要適用于高速鋼、模具鋼、工具鋼、合金鋼、鈦合金等材料淬火后光亮退火。消除鍛件、焊接件、冷沖壓件、工件淬火后殘余內應力，防止工件變形開裂、高溫合金、硬質合金、陶瓷等的真空釬焊和稀土永磁合金、碳化物、金屬陶瓷等粉末材料的真空燒結等。
⑤CVD系統：CVD系統是在管式爐的基礎上，增加了氣體混合系統，利用氣態或蒸氣態的化學物質通過化學反應在氣相或氣固界面上沉積出固態沉積物的方法。CVD系統主要應用在：制備各種材料的單晶、多晶或非晶材料，包括硅、碳化物、氮化物、氧化物等。這些材料可用于制造集成電路、電子器件、光學器件、傳感器等。是一種廣泛應用于薄膜、涂層和材料制備的技術。
⑥PECVD系統：PECVD系統實在CVD系統的基礎上增加了等離子射頻系統，是一種在較低溫度下快速進行化學反應的工藝，利用等離子能源在反應器內使氣態或蒸氣狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態沉積物的技術。它通過在反應室內引入等離子體，利用等離子體的能量激活化學反應，從而在較低溫度下快速沉積出所需的薄膜。PECVD系統可以在比CVD系統更加低的溫度下進行物料鍍膜。PECVD系統的主要應用：用于制備硅氧化物、氮化硅等薄膜，用于半導體器件的制造，如晶體管和集成電路；制備透明導電膜、氧化鋅薄膜等，廣泛應用于液晶顯示器（LCD）和有機發光二極管（OLED）生產；非晶硅、氮化硅，用于太陽能電池的制備；反射膜、抗反射膜等，應用于光學元件的涂層；制備防護性薄膜，如防刮、防水、防腐蝕涂層等。
PECVD系統的主要結構
熱處理爐的選擇還涉及到溫度范圍、加熱方式、控制系統等因素。在選擇熱處理爐時，需要考慮所需的工藝規范和材料性質，確保選用的爐型符合具體的熱處理要求.點擊了解更多熱處理設備！或者點擊咨詢在線客服選擇適合自己熱處理工藝的爐型！
獲取報價
即刻留言 
添加微信咨詢報價