下面圖中的CVD管式爐是中國一知名大學研究實驗室的一位客戶的。該客戶是2019年采購的CVD管式爐系統，該CVD系統由1200C管式爐+帶質量流量計的三通道氣體混合單元+真空泵單元組成。
客戶于2021年再次采購PECVD系統（等離子化學氣相沉積設備）。（PECVD）系統由滑動管式爐+帶質量流量計的三通道氣體混合裝置+真空泵裝置+一個 射頻等離子體源。 這種PECVD設備適用于需要快速加熱和冷卻的石墨烯生長工藝和CVD實驗。
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