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馬弗爐和氣氛爐都是實驗室和工業生產中常用的加熱設備，但是它們兩個是有部分結構上的區別的，下面就來看看兩種熱處理設備都有什么區別吧！
工作原理：
馬弗爐是一種密閉的爐體，內部有一個熱區用于放置樣品，熱區被稱為馬弗。馬弗爐通常采用電阻加熱或輻射加熱的方式，加熱元件位于爐外的熱區周圍，使熱量均勻地傳遞到爐內樣品。
氣氛爐是一種專門用于控制氣氛環境下的加熱處理設備，通常用于實現氣氛調節、保護和改性等目的。氣氛爐可以在氮氣、氫氣、氧氣等不同氣氛下進行加熱處理，以實現特定的工藝要求。相對于馬弗爐增加了氣路和真空系統技術，并增加了部分部件。
應用場景：
馬弗爐主要用于對樣品進行高溫加熱處理，例如退火、燒結、熱處理等，通常適用于實驗室、科研機構以及一些工業生產場景。
氣氛爐主要用于在特定氣氛環境下進行加熱處理，例如在氮氣、氫氣、氧氣等氣氛下進行熱處理、燒結、合成等工藝，適用于金屬加工、材料制備、電子器件制造等領域。
功能特點：
馬弗爐主要提供高溫加熱功能，樣品放置在馬弗內部的熱區進行加熱處理，通常適用于無需特殊氣氛環境的加熱處理工藝。
氣氛爐除了提供高溫加熱功能外，還能夠通過調節氣氛環境實現對樣品的保護、改性和合成等功能，適用于需要特定氣氛環境的加熱處理工藝。
比較常用的馬弗爐，相對于氣氛爐少了密封系統和真空氣氛系統(點擊圖片查看產品詳情)
所以說，馬弗爐和氣氛爐在工作原理、應用場景和功能特點上存在一定區別，選擇合適的加熱設備應根據具體的加工要求和工藝需求進行考慮。點擊了解更多氣氛爐！或者點擊咨詢在線客服了解更多產品信息！
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